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根据《国务院关于印发鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》(国发〔2000〕18号)的有关规定,经国务院批准,现对部分集成电路生产企业进口自用生产性原材料、消耗品的税收政策通知如下:
一、自2000年7月1日起,对在中国境内设立的投资额超过80亿元或集成电路线宽小于0.25微米的集成电路生产企业进口本通知附件所列自用生产性原材料、消耗品,免征关税和进口环节增值税。
二、由国家计委将符合上述条件的集成电路生产企业名单通知海关总署,海关对这些企业进口的生产性原材料、消耗品按照本通知附件所列商品目录办理免税手续,并作好后续监管工作。
三、商品目录原则上每年调整一次,由信息产业部会同国家计委、财政部、外经贸部、海关总署、税务总局等有关部门提出意见,报国务院审批。
四、附件所列商品目录包括税则号列和商品名称。海关审核该类进口商品免税时,如遇商品名称和税则归类与本文规定不一致时,以本文所列的商品名称为准。
五、国家计委对符合条件的集成电路生产企业名单、海关总署对享受该政策的年度实际进口数量应及时抄送财政部。
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 1 一、 树脂 树脂 1 . 01 32149000 塑封 RESIN/Molding Compound/CHIP COAT 2 导电 1 . 02 38249090 导电 3 胶膜 保护 2 .01 39209090 (硅 ( UV/ICROS TAPE/PELLICLEGALSS) TAPE 4 硅片 2 . 02 39199090 贴膜 UV& NON一 UV CURABLEBACKGRINDING TAPE 5 2 . 03 39199090 剥离 ADHESIVE TAPE( plastic) 6 2 . 04 39199099 剥离 ADHESIVE TAPE( plastic) 7 剥离 2 . 05 40169990 剥离 ADHESIVE TAPE( rubber) 8 基板 基板 3 . 01 85340090 基板 SUBSTRATE 9 3 . 02 85425000 线路 PC BO.A RD 10 支撑 支撑 4 . 01l 85425000 支撑 TAB TAPE
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 11 一、 原材 硅片 硅片 5 . 01 38180019 硅片 WAFER/DIE 12 5. 02 38180090 辅助 ( Dummy) WAFER 13 5 . 03 28046110 多晶 14 5 . 04 38180090 硅圈 Wafer 15 特殊 高纯 高纯 高纯 高纯 其他 殊气 6 . 01 28011000 氯气 CHLORINE 6 . 02 28042100 氢气 ARGON 16 6 . 03 28042900 氛气 XENON 17 18 6 . 04 28042900 氦气 HELIUM 19 6 . 05 28043000 氮气 NITROGEN 20 6 . 06 28111990 澳化 HYDROGEN BROMIDE 21 6 . 07 28112100 二氧 化 碳 CARBON DIOXIDE 22 6, 08 28112900 一氧 CARBON MONOXIDE 23 6 . 09 28112900 一氧 NITROUS OXIDE 24 6, 10 28510090 二氯 DICHLOROSILANE 25 6, 11 28121049 三氯 BORON TRICHLORIDE
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 26 一、 特殊 其他 6 . 12 28121049 三氟 CHLORINE TRIFLUORIDE 27 6 . 13 28129000 三氟 BORON TRIFLUORIDE 28 6 . 14 28121049 六氟 SULFUR HEXAFLUORIDE 29 6 . 15 28129000 三氟 NITROGEN TRIFLUORIDE 30 6 . 16 28141000 氨气 AMMONIA 31 6 . 17 28261900 六氟 TUNGSTEN HEXAFLUO-RIDE 32 6 . 18 38249090 硅烷 SILANE/HELIUM 33 6 . 19 28500000 (甲 MONOSILANE 34 6 . 20 38249090 (甲 MONOSILANE/NITROGEN 35 6 . 21 29033090 三氟 TRIFLUOROMETHANE 36 6 . 22 29033090 四氟 TETRAFLUOROMETHANE 37 6 . 23 29033090 六氟 HEXAFLUOROETHANE 38 6 . 24 29033090 二氟 DIFLUORO METHANE 39 6 . 25 29035900 八氟 OCTA一 FLUOROCYCLOBU-TANE( C4F8)
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 品 名(企 40 一、 原材 特殊 其他 殊气 6 . 26 29035900 八氟 氟环 OCTA一 FLUOROC-YCLOPENTEN( C5 F8 41 6 . 27 38249090 氢氖 KRYPTON/NEON 42 6 . 28 38249090 氢氟 KRYPTON/F2/NEON 43 6 . 29 38249090 氟氖 F2/Ne 44 6 . 30 38249090 氧气 OXYGEN/ARGON 45 6, 31 38249090 磷烷 PHOSPINE/HELIUM 46 6 . 32 38249090 甲烷 METHANE/ARGON 47 6 . 33 28041000 氢气 Hydrogen 48 6 . 34 28044000 液氧 49 6.35 38249090 氯化 50 6 . 36 28499090 六碳 CrC6 51 6 . 37 38249090 蚀刻 CR一 3ST CHROMIUM ETCHANT 52 6 . 38 29033090 六氟 C2 F4 53 6 . 39 38249090 氦/氢 He/H2 54 6 . 40 38249090 磷化 PH3/H2
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 55 一、 特殊 其他 殊气 6 . 41 38249090 磷化 PH3/He 56 6 . 42 38249090 硅 甲 烷 /磷 PH3 /SiH4 57 6 .43 28121049 六氯 Si2C16 58 6 . 44 28500000 六氢 Si2H6 59 6 . 45 29310000 三甲 SiH( CH3) 3 60 6 . 46 38249090 四氢 SiH4/HE2 61 6 . 47 38249090 乙硼 Diborane/Nitrogen( B2H6/N2) 62 6 . 48 38249090 氟/氮 Flourine/Nitrogen 63 6 . 49 38249090 氦气 Helium/Nitrogen 64 6 . 50 28061000 氯化 Hydrogen Chloride 65 6 . 51 28121049 四氟 Silion Tetrafluoride( SiF4) 66 6 . 52 28480000 磷化 Phosphine 67 6 . 53 28061000 氯化 Halocarbon 68 6 . 54 38249090 高纯 ASH3/H2 69 6 . 55 38249090 乙硼 B2H6/He
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 70 一、 特殊 其他 6 . 56 2812900 高纯 BF3 71 6, 57 2850000 砷化 Arsine 72 6 . 58 38249090 氢气 H2/N2 73 6 . 59 38249090 磷化 PH3/SiH4 74 6 . 60 29033090 六氟 C2F6 75 6 . 61 29033090 四氟 CF4 76 6 . 62 29033090 氟甲 CH3F 77 6 . 63 28111100 氟化 HF 78 6, 64 28500000 氢化 ASH3 79 6 . 65 28129000 氟化 BF3 80 6 . 66 28261990 氟化 GeF4 81 6 . 67 38249090 氧气 体 02/He 82 6 . 68 38249090 磷烷 PH3 /N2 83 6 . 69 38249090 氧气 02/N2 84 6 . 70 28112900 一氧 NO
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 85 一、 原材 特殊 其他 殊 气体 6 .71 38249090 硅烷 SiH4, N5( 20% )/ Ar 86 6.72 38249090 乙硼 B2H6/H2 87 6 .73 28510090 二氯 88 光刻 用化 显影 光刻 防反 稀释 聚酞 增粘 7 .01 37079090 显像 剂) Developer, Tetramethyl Ammo- nium Hydroxide Solution, ( De- veloper Series) 89 7 .02 37071000 光刻 Photoresist 90 7 .03 38249090 防反 CVD 成 膜用 用 /BARC DUV/BARC 91 7 .04 38140000 稀释 PM Thinner ( THINNER series) 92 7 .05 38140000 (净 Cleaning Solution Thinner 93 7.06 39119000 聚酞 胺) Sumiresin Excel( HP/Photo sen sitive polymide) 94 7 .07 29310000 双(三 Hexamethyldisilazane OAP 95 7, 08 ?29141900 甲基 Methyl Amyl Keton
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 96 一、 光刻 用化 7 . 09 29337900 N一 甲基 N一 Methyl一 2一 Pyrolidone 97 7 . 10 34059000 氧化 Slurry 98 7 . 11 37013090 光刻 99 抛光 抛光 8 . 01 34059000 研磨 PLANERLITE, Semi一 SperseAqueous Dispersions 100 8 . 02 34029000 用于 面活 CMPSURFACTANT 101 8 . 03 34059000 CMP研 磨粒 CMP abstrasive particle 102 8 . 04 34059000 二氧 SLURRY HS一 DLS 103 8 . 05 32074000 钝化 104 掺杂 固态 气态 液态 9, 01 28047090 (高 High Purity Red Phosphorus 105 9 . 02 28048000 (高 Arsenic Metal 106 9, 03 28129000 硼源 107 9 . 04 38249090 锑扩
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 108 一、 掺杂 固态 9 . 05 28258000 三氧 109 9 . 06 29121020 磷酞 Phosphorus Oxychloride 110 9 . 07 29273990 高纯 INDIUM TRICHLORIDE 1 11 9 . 08 282611900 四氟 GeF4 112 9 . 09 282611900 三氟 InF3 113 刻蚀 氟系 10.01 38249090 氢氟 BufferedHydrogenFluoride 114 10.02 38249090 氢氟 FilmEtchPoly 1 15 10.03 28111100 氢氟 HydrofluoricAcid( HF) 116 10.0 4 38249090 录 j离 液 Resist Strip, IC461 1 17 10.05 38249090 氧化 BUFFERED OXIDE ETCH 1 18 10.06 38249090 氟化 BOE ETCH 119 10.07 29053100 乙二 ETHYLENE GLYCOL 120 10,08 38249090 乙二 EG」 一 NHQF 121 10.09 29310000 六甲 HMDS/HD POLYIMIDE
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 122 一、 刻蚀 氟系 录」 磷酸 10. 10 382490911 铝刻 DAE DEFRECKLING ALU- MIMUN ETCH/M2 Acid/Al Etch 123 10. 11 37071000 感光 124 10. 12 38249090 酸, ACID& Alkali PH adjuster additives 125 10. 13 34021900 BTA/EDA化 学品 BTA, EP GRADE IHBENJO TRIAJOLE 100G/BT 126 10. 14 28332500 含水 CuS04 . 5H20 127 10. 15 28273500 氯化 NICKLE CHLORIDE 128 10. 16 28309090 硫化 NICKELSULFATE 129 10. 17 38249090 无尘 NOE( NATIVE OXIDE ETCHING) 130 10. 18 29171110 草酸 CIREX FOR CMP/COOH OXALIC ACID 131 10. 19 28061000 盐酸 HYDROCHLORIC ACID ( HCl)
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 132 一、 刻蚀 氟系 10. 20 28261000 氟酸 AMMONIUM FLUORIDE 40% 133 10. 21 29041000 甲烷 METHANESULFONIC ACID 134 清洗 乙醇硫 硝酸磷 氨水过 11 .01 22071000 乙醇 Ethanol 135 11 .02 28070000 硫酸 Sulfuric Acid 1 36 11 .03 28080000 硝酸 Nitric Acid 137 11 .04 28092010 磷酸 Phosphoric Acid 138 11 .05 28142000 氨水 Super Pure Ammonium Hydrox- ;de Elm/NH3 . H20( AR) 139 11 .06 28470000 过氧 HydrogenPeroxide 140 11 .07 29051220 异 丙 醇 (纯 IsopropylAlcohl 141 11 .08 28152000 氢氧 POTASSIUM HYDROXIDE SOLUTION 142 11, 09 28261900 氟化 POTASSIUM FLUORIDEKF
性质 类别 序号 税则 商品 英文 143 一、 清洗 高纯 11.10 38249090 混合 144 1 1 . 11 28142000 氢氧 AMMONIUM HYDROXIDE PPB 145 1 1 . 12 38220090 铝酸 MOLYBDATE 3 REAGENT 146 11, 13 29051990 异丙 ISOPROPYL ALCOHOL PPB 147 1 1 . 14 34029000 清洗 W RS一 200( surfactant) 148 1 1 . 15 29189000 晶片 RINSE FOR POLYMIDE 149 11, 16 38249090 光刻 STRIPPER FOR PHOTORE SIST
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 150 一、 清洗 高纯 11.17 29189000 甲氧 于 PPM) RER 600 PPB 151 11 . 18 29141100 丙酮 Acetone 152 电镀 电镀 添加 退锡 其他 电镀 12. 01 11081900 可溶 SOLUABLESTARCH 153 12. 02 28012000 碘 IODINE 154 12. 03 38220090 标准 BORON STANDARD SOLU- TION 155 12. 04 38249090 变色 SILICON GEL 156 12. 05 29041000 无氟 NF ACID/AF LEAD/NF TIN 157 12. 06 28080000 发烟 FUMING NITRIC 158 12, 07 38249090 HC酸 液 SOLDERON ACID HC 159 12. 08 28151100 氢氧 NAOH 160 12. 09 38249090 RD浓 液 SOLDERON RD 161 12. 10 38220090 铅标 STANDARD LEAD CONC 100MLB 162 12. 11 38249090 缓 BUFFERED OXIDE ETCHANT 10: 1 W /OHS
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 163 一、 电渡 电镀 添加 退锡 其他 电镀 12. 12 28261100 氟化 NH4F 164 12. 13 292760000 碘化 POTASSIUM IODIDE 500ML/BTL 165 12. 14 25010020 氯化 NACL 50KGBTL( AR ) 166 1'l . 15 28323000 硫代 Na2S203 500ML/BTL 167 12. 16 38220090 铜标 STANDARD CUPPER CONC100MLBTL 168 12. 17 38220090 铁标 SODIUM IRON CONE 100MLBTL 169 12. 18 28362000 无水 SODIUM CDRBONDTE 500G/BTL 170 12. 19 29054500 无水 GLYCERINE 171 12. 20 29072210 对苯 HYDROQUINONE 172 12. 21 38220090 酚酞 PHENOLPHAHALEIN( 5 . 5/25G)50MLBTL
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 173 一、 电渡 电镀 添加 12. 22 38249090 退锡 TL一 9010 174 12. 23 29152190 乙酸 CH3COOH 175 12 . 24 29041000 甲磺 NF ACID 30KG/CAN 176 12, 25 38220090 硬度 HARDRESSREAGENT/TITRART SOLUTION HARDRESS 177 12. 26 38249090 DPD余 氯试 DPD TOTAL CALORINERE REAGENT 178 12. 27 34039900 切割 CUTTING FLUID 179 12. 28 34029000 表面 MODIFIER/72BC ADDITIVE/BUFFERED ETCH 180 12. 29 38249090 NaOH/Na3P04 /Na2C03 Mr. 合液 ENBOND CA 一 S 181 12. 30 38249090 PH调 节剂 PH ADJUSTOR 182 12. 31 83119000 锡铅 SOLDER 183 12. 32 38109000 助焊 ALPHAR TYPE 100#
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 184 一、 成膜 绝缘 13. 01 38249090 绝缘 Sumika Film 185 13 . 02 28273990 四氯 TiCt4 1 86 13, 03 29190000 磷酸 三 乙酉 TEPO 1 87 13. 04 29190000 磷酸 Trimethyl Phosphate 188 13. 05 29190000 硼酸 TEB 189 13 .06 29190000 硼酸 Trimethyl Borate 190 13. 07 29310000 四乙 Tetraethoxysilane TEOS 191 13. 08 29310000 四乙 192 13.09 29153300 醋酸 Butyl Acetate 193 13. 10 29181100 乳酸 乳酸Ethyl 194 13. 11 29310000 十二 DODE CAMETHYLCY一 CLOHEXASILOXANE
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 195 一 、 直 接原材 成膜 绝缘 13. 12 29310()00 十甲 DECAMETHYLCYCLOPENT-ASILOXANE 196 13. 13 29310000 四甲 HEXAMETHYLDISILOXANE 197 13, 14 29310000 六甲 HEXAMETHYLCYCLOTRISI -LOXANE 198 13. 15 9310000 八甲 OCTAMETHYL-CYCLOTETRASILOXANE 199 13. 16 29310000 二甲 TRIMETHYLSILANOL 200 13. 17 偏氯 TRANSI一 2一DICHLOROETH YLENE 29032900 201 13. 18 29310000 四一 TDMA1, Tetrakisdimethylamine Titanium 202 13. 19 29310000 四氧 TEOS 203 13. 20 38249090 光罩 (无 AP/Mineral Acid 204 13. 21 38249090 蚀刻 CR/chromium etching
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 205 一、 成膜 绝缘 13. 22 34029000 表面 TK 206 13 .23 29310000 三乙 TEB 207 13 .24 39049000 六氟 COOLANT Ualden( R) HT200 208 掩膜 掩膜 14. 01 70200019 掩膜 EXPOSED& DEVELOPED PHOTOMASK 209 14 .02 70200019 光刻 Mask, Mask substrate material 210 靶材 靶材 15. 01 74199990 铜靶 Ultra High Purity Sputterring Target 211 15. 02 76169990 铝靶 材 ( >99% ) Ultra High Purity Sputterring Target 212 15. 03 81019900 钨金 Target( tungsten) 213 15. 04 76169990 铝一 TARGET AL一 Cu 214 15. 05 76169990 铝一 TARGET Al一 Si 215 15. 06 76169990 铝一 TARGET AI一 51一 Cu
序一 性质 类别 序号 税则 商品 英文 216 一、 靶材 靶材 15.07 81059000 钻靶 TARGET Co 217 15.08 75089090 镍靶 TARGET Ni 218 15.09 81039000 钮靶 } TARGET Ta 219 15,10 81089090 钦靶 TARGET TI 220 金线 金线 16.01 71081300 金线 GOLD WIRE 221 引线 引线 17.01 85429000 引线 LEAD FRAME 222 银浆 银浆 18.01 38249090 银浆 AG PASTE 223 二、 O型 圈 O型 圈 1 .01 40169910 O型 圈 O ring 224 组装 组装 2 .01 38269010 吸头 vaccum TIP 225 2 .02 39269901 真空 Vaccum Pick一 up System 226 2 .03 40169910 橡胶 SPONGE VACUUM CUPS 227 承载 承载 3 .01 39269090 承载 CARRIER TAPE/TRAY 228 研磨 研磨 4 .01 68042290 研磨 Polishing Pad/BackingPad
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 229 二、 研磨 研磨 4 . 02 68042100 化学 Diamond Disks for CMP 230 4 . 03 39269010 化学 (塑 insert film( plastic) 231 4 . 04 40169310 化学 (橡 insert film( rubber) 232 4 . 05 39269010 化学 membrance 233 防静 防 静 5. .01 39209990 包装 234 5 . 02 39231000 硅片 CASSETTE 235 5 . 03 48239090 硅片 236 5 . 04 40161010 海绵 237 5 . 05 38220010 指示 238 5, 06 38249090 干燥 239 5 . 07 76129090 防潮 240 5 . 08 39269090 缓冲 241 5 . 09 39235000 防静 BLACK FORM
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 242 二、 防静 内包 防静 装材 5 . 10 39269090 防静 POLLY PINK 243 5 . 11 39231000 防静 INTER CARTON 244 5.12 39172900 材料 TUBE 245 5 . 13 39235000 防静 CLEAR PLUG 246 5 . 14 76129090 真空 ALUMINIUM BAG 247 5 . 15 38220010 湿度 H一 I一 CARD 248 5 . 16 58061090 魔带 VELSO STRAP( 50EABOX) 249 5 . 17 39269010 塑料 250 5.18 40161010 橡胶 CHEMICAL SERBENT PADS 251 5 . 19 39191099 防(抗 ANTI一 ACID TAPE 252 生产 传输 用 品 6.01 1920999n 高温 HIGH TEMP SEPERATOR 253 6 . 02 39269010 吸头 SARCON 45F SILICONRUBBER 254 硅片 专用 7 . 01 96035091 化学 PVA BRUSH
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 255 二、 真空 8 . 01 34031900 真空 256 分析 分析 9 . 01 28363000 碳酸 SODIUM HYDROGEN CAR -BONATE 257 9 . 02 29152190 醋酸 ACETIC ACID 258 9.03 29189000 丙二 PROPYLENE GLYCOL METHYL ETHERACETATE 259 9 . 04 38220090 甲基 METHYL ORANGE 260 9 . 05 38249090 冰醋 NSG一 ACETIC ACID MIXEDSOLUTION 261 9 . 06 38249090 异丙 ORGANO FLUX( 3355一 11) 262 9 . 07 28131000 二硫 CARBON DISULFIDE 263 9 . 08 38220090 柠檬 CITRIC ACID REAGENT 264 9 . 09 39221100 单乙 MONO ETHANOLAMINE 265 9 . 10 38220090 氨基 AMINO ACID REAGENT 266 交换 交换 10. 01 39140000 离子
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 267 二、 过滤 过滤 1 1 . 38021000 活性 268 11, 02 38159000 触媒 269 1 1 . 03 61079000 过滤 FITLER BAGS 270 11 . 04 39232900 阳极 ANODE BAGS 18*2*1, 5* 271 11 . 05 39209990 反渗 RO membrance for clean room 272 过滤 过滤 12. 01 84212990 (液 FILTER 273 12. 02 84213990 (气 FILTER 274 12. 03 84213990 其他 FILTER 275 高分 脱模 13. 01 34039900 脱模 MOLD WAX RELEASE 909C 276 超洁 析物 超洁 析物 14. 01 39232100 无菌 DIW Sample Bag 277 14. 02 39269090 无菌 Plastic Syringe 278 14. 03 39233000 无菌 279 14. 04 38210000 超纯 m一 Heterotrophic Plate countmedium
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 280 二、 石英 扩散 15.01 70200019 生产 281 15.02 68043090 打磨 LAPPING PLATE FOR SHINKAWA IL一 20 282 15.03 69149000 瓷嘴 CABILIARY 283 生产 16.01 82032000 晶片 TWEEZER, WAFER 284 16.02 84283990 晶片 TRANSFER, HORIZONTAL,WAFER, 285 光罩 光罩 17.01 39269090 光罩 Reticle/Mask POD 286 探针 18.01 84799090 探针 prober card 287 18,02 85444990 探针 prober card cable 288 探针 洗片 探针 19.01 68052000 (探 289 洁净 C1ass100及 以下洁 20.01 70193900 无(防
序号 性质 类别 健 序号 税则 商品 英文 290 二、 专用 C1ass100及 以下 专用 20 .02 39262000 无(防 291 20 .03 63071000 无(防 292 20 .04 63079000 无纺 洁净 防静 293 20 .05 62101090 (无 294 20 .06 62113290 (棉 295 20 .07 无纺 296 20 .08 64039900 无(防 297 20 .09 63079000 无纺 298 20 .10 62114300 超净 Clean Room Suit/Garment 299 20 .11 40151900 橡胶 300 20 .12 62160000 无纺 301 20 .13 39262000 塑料 ANTI一 ACID Glove 302 20 .14 68129000 耐高 303 20, 15 84213990 气体
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 304 二、 20.16 39199090 塑料 SCOURING 305 20.17 63071000 吸液 306 20.18 32159090 打点 307 20.19 8,)438990 电子 Smart tag 308 20.20 39199090 洁净 BLUE TACKY MAT 309 20.21 39204300 洁净 性) Plastic sheets 310 20.22 48201000 洁净 记本 Clean room notebook/Lable/ Clipboard, Clean room, Kit W/ Paper 3 11 20.23 62160000 棉线 Full Finger glove liner Small 312 20.24 62171090 防尘 313 20.25 48235900 无尘 clean paper 314 洁净 Class100及 以下洁 21.01 85392999 专用 315 21,02 83932911 专用 Xeon Lamp 316 21.03 85393290 专用 Halogen Lamp
序号 性质 类别 序号 税则 商品 英文 317 二、 生产 21 . 04 85393290 专用 Mercury Lamp 318 21 . 05 85393990 专用 Fluoresent Lamp 319 21, 06 85393990 专用UV灯 UV Lamp 320 21 . 07 85393290 专用 321 21 . 08 85394900 专用